ASML：AI需求將持續超過供給，2027至2028年產能缺口難補
nashnova research
全球唯一EUV光刻機供應商ASML明確表示，AI驅動的需求已令其2027—2028年產能全部不夠用，缺口可能延續到2030年——這是疫情以來半導體設備供應鏈最緊張的信號。
產能缺口到底有多大？
ASML此前已宣布明年將最先進EUV光刻機（用極紫外光在晶片上刻電路的設備）產能提升30%，現在CEO富凱說還在研究「超出30%之外、進一步擴大2028年產能的方式」。
這意味著→ 即使把產能再往上拉，依然填不滿客戶的訂單排期，供需缺口不是「緊一緊就夠了」，而是結構性的。
部分客戶已開始鎖定2029年甚至2030年的訂單意向——這是新冠半導體供應鏈危機以來，首次出現如此超前的排單行為。
誰在拼命搶機器？
台積電、英特爾等主要客戶正感受到下游「非常非常強勁的需求」，因此在加速產能擴張計劃，集中向ASML下大單。
簡單來說＝ AI晶片需求一層層傳導：科技公司要算力 → 晶圓廠要產能 → 晶圓廠搶光刻機。ASML坐在這條鏈的最上游，壓力全部匯聚到它一家。
高盛預測今年全球AI基礎設施支出將超過1萬億美元，而光刻機供給被視為制約這一增長的核心瓶頸。
最新季報表現如何？
第三季度總淨銷售額同比增長55%至117億歐元，與市場預期基本吻合；淨利潤同比增長134%至50億歐元。
其中包含對法國AI公司Mistral持股重估帶來的5億歐元一次性收益——剔除後利潤增速仍然強勁。
公司將第四季度收入指引上調至142億—152億歐元，高於此前市場一致預期的約143億；全年收入下限也從430億上調至440億歐元。
下一代光刻機進展到哪了？
ASML研發逾十年的「高數值孔徑」光刻機（High NA，分辨率更高的下一代EUV系統）取得關鍵進展：台積電已「基本確認」將於2030年前後將其投入高產量製造。
三星和英特爾也是首批客戶——這意味著→ 三大先進製程晶圓廠同時押注同一套新系統，High NA從「實驗室產品」正式進入量產倒計時。
這反映出一個更深層的信號：晶片製造精度的軍備競賽並未因產能緊張而放緩，反而在加速。
對市場意味著甚麼？
ASML同時完成了新一輪客戶加價談判，影響將「部分體現」在明年業績中——設備緊缺給了它定價權。
說白了＝ 當全世界只有一家公司能造最先進光刻機、而所有客戶都在搶，加價就不是「能不能」的問題，而是「加多少」的問題。
設備供給緊張格局能否通過擴產如期打破，將是市場未來數年持續跟蹤的關鍵驗證節點。
市场有风险，内容仅供研究参考，不构成投资建议。