中國國產DUV光刻機啟動量產，今年目標交付五台
Alina Collins
一家上海國資背景公司已開始量產浸沒式DUV光刻機，今年計劃向中芯國際等本土晶圓廠交付五台——這是中國晶片設備國產替代從實驗室走向產線的第一步，但與ASML去年交付131台的規模相比，差距仍以數量級計。
這家公司是誰，機器造給誰用？
據《The Information》援引知情人士，該公司整合了多家中國企業的浸沒式DUV研發團隊，包括國家支持的初創公司上海御量晟科技。
因光刻項目高度敏感，知情人士要求對公司名稱保密。
首批設備計劃今年交付給中芯國際、華虹半導體、長鑫存儲——覆蓋邏輯晶片和存儲晶片兩大方向。
產能到底有多少，夠用嗎？
今年計劃生產約五台，2027年提升至約二十台。
對比：ASML去年交付131台浸沒式DUV系統。這意味著→ 國產產能目前不到ASML的4%，短期內無法替代進口。
簡單來說＝ 這更似「跑通產線」的驗證階段，而非真正的規模化供應。
機器性能過關了嗎？
知情人士指出，國產DUV在精度、可靠性和設備兼容性上仍落後於ASML產品。
進入量產線可能還需數月甚至更長時間來完成測試驗證。
國內供應商的交貨延遲已影響今年的生產進度——這意味著→ 瓶頸不只在光刻機本身，整條國產供應鏈都尚未成熟。
零部件能做到完全國產嗎？
該光刻機主要採用國內零部件，但部分關鍵部件仍來自日本。
浸沒式DUV（一種用液體介質提高光學分辨率的光刻技術）傳統上依賴全球專業供應商網絡，完全國產化仍面臨挑戰。
這反映出一個現實：即便整機在國內組裝，「卡脖子」的零部件環節並未完全打通。
出口管制還會繼續收緊嗎？
美國現行管制已禁止中國購買ASML的EUV光刻機（用極紫外光在晶片上刻電路的最先進設備），迫使中國依賴較舊的浸沒式DUV。
美國國會正審議《MATCH法案》，擬進一步限制浸沒式DUV出口，並限制對部分中國晶片工廠的設備維護。
這意味著→ 若該法案通過，中國連ASML的舊款DUV也可能買不到，國產替代的迫切性會再升一級。
對ASML和全球晶片供應鏈意味著甚麼？
知情人士認為ASML面臨的直接威脅有限，但若國產產量持續提升，尤其在西方進一步收緊限制後，可能逐步侵蝕其中國市場份額。
國產DUV初期可用於擴大成熟製程晶片產能，包括AI伺服器所需的電源管理晶片——這類晶片雖不先進，但供應短缺同樣會拖慢整個計算系統建設。
簡單來說＝ 關鍵不在於國產光刻機能否追上最前沿，而在於它能否穩定量產「夠用」的晶片，減少對進口設備的依賴。
Content is for reference only, not financial advice.